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[多选] 解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。

A . 加强工艺操作
B . 加强人体和环境卫生
C . 使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备
D . 采用HCl氧化工艺
E . 硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹

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集成电路制造工艺员（三级）题库

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