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集成电路制造工艺员题库 / 集成电路制造工艺员(三级)题库
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集成电路制造工艺员题库 / 集成电路制造工艺员(三级)题库
[单选] 二氧化硅生长过程中,当分凝系数小于1时,会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度()。
A . 降低
B . 增加
C . 不变
D . 先降低后增加
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集成电路制造工艺员(三级)题库
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