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集成电路制造工艺员题库 / 集成电路制造工艺员（三级）题库

[多选] 下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有（）。

A . CF₄
B . BCl₃
C . Cl₂
D . F₂
E . CHF₃

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集成电路制造工艺员（三级）题库

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