>> 集成电路制造工艺员题库 / 集成电路制造工艺员（三级）题库

集成电路制造工艺员题库 / 集成电路制造工艺员（三级）题库

[单选] 在新一代的CMP中，有使用（）磨料在金属表面上形成软质皮膜并加以去除的趋势。

A . 二氧化锰
B . 铝
C . 氧化铬
D . 金刚石

1积分

集成电路制造工艺员（三级）题库

参考答案：

点击查看答案

参考解析：

暂无解析

佳题速递：

汽油机热效率比柴油机低的重要原因是汽油机的（）小。拖拉机司机考试题库

行为安全观察与沟通主要内容包括哪些？钻井HSE管理培训考试题库

蛋白质有哪些营养作用？畜牧生产学题库

申请个人经营贷款的借款人应具有完全民事行为能力的自然人，年龄在18（含）至（）周岁（不含）之间。工商银行招聘面试题库

关于卵巢黄体的形成与萎缩，哪项是错误的（）生殖内分泌疾病题库

运用艾氏法测定煤中全硫含量，其特点是准确度高，但速度慢，适用于成批测定。煤质化验高级工题库