集成电路制造工艺员题库 / 集成电路制造工艺员（三级）题库
[单选] 晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的（）使得在刻蚀多晶硅电极时对它的刻蚀要尽可能的小。
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