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[单选] 半导体三极管工作过程中()。

A . 发射区杂质浓度大于基区杂质浓度;
B . 发射区杂质浓度小于基区杂质浓度;
C . 发射区杂质浓度等于基区杂质浓度;
D . 发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。

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