>> 集成电路制造工艺员题库 / 集成电路制造工艺员（三级）题库

集成电路制造工艺员题库 / 集成电路制造工艺员（三级）题库

[单选] 单晶硅刻蚀一般采用（）做掩蔽层，以氟化氢为主要的刻蚀剂，氧气为侧壁钝化作用的媒介物。

A . 氮化硅
B . 二氧化硅
C . 光刻胶
D . 多晶硅

1积分

集成电路制造工艺员（三级）题库

参考答案：

点击查看答案

参考解析：

暂无解析

佳题速递：

气相色谱法分离中等极性组分首先选用（）固定液，组分基本按沸点顺序流出色谱柱。环境监测题库

转子流量计在实际测量气体流量时要进行修正计算。当被测介质气体的（）与空气不同时须进行刻度换算。仪表部分题库

什么叫GIS？高电压电工作业题题库

定位装置的超限恢复时间是（）。高级接触网工题库

一位5岁女孩患肾病等候肾移植。经父母商讨同意家人进行活体移植。经检查，其母、弟均不适合，其父适合。医生与其父商量用为供者，但其父经一番考虑后不做供者，并恳请医生告诉他的家人他不适合做供者，因担心家人指责其对子女无情，医生虽然不愿意，但还是按其意图做了。问：（1）医生说谎道德吗？（2）其父的做法对吗？从伦理角度进行分析，并说明理由。二、无菌技术与手术室护理题库

介质粉末炼金工艺题库