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集成电路制造工艺员题库 / 集成电路制造工艺员（三级）题库

[单选] 光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。

A . 涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶
B . 涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶
C . 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶
D . 前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶

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集成电路制造工艺员（三级）题库

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